Facebook icon
e-mail icon
Twitter icon

布魯斯‧瑙曼個展「出場/離場」

"Presence/Absence" by Bruce Nauman

香港白立方 White Cube Hong Kong

白立⽅欣然呈現布魯斯・瑙曼(Bruce Nauman)於⼤中華區的首次個展。瑙曼的藝術⽣涯超過50 年,是美國藝術界公認的核⼼⼈物,也是他那⼀代最具影響⼒的藝術家之⼀。

「出場/離場」展出五件創作於1999-2013 年間的錄像裝置作品,集中展示瑙曼在攝像機鏡頭前後的那些實驗性表演——無論其身處⼯作室中,抑或在新墨西哥州的牧場上。配合本次展覽,白立⽅亦將出版⼀本圖錄,其中包括由作家、策展⼈喬安·西蒙(Joan Simon)撰寫的⽂章。

繼2012 年白立⽅柏蒙塞空間展出瑙曼1960 年代的⼯作室影像作品之後(詳情請於此瀏覽),「出場/離場」延續了藝術家通過時間性媒介對舞台動作的探索,探索它們的模糊性、弱點與顯而易見的錯覺。

本次展覽與紐約Sperone Westwater 畫廊合作舉辦。

2021年03月10日 - 2021年05月08日
開放時間: 11:00 - 19:00 (二至六)


閱讀全文 收起
參與者們